プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.1→47.84 Å / Num. obs: 29742 / % possible obs: 99.6 % / 冗長度: 10.57 % / Rsym value: 0.0529 / Net I/σ(I): 13.16
反射 シェル
解像度: 2.1→2.2 Å / 冗長度: 10.11 % / Rmerge(I) obs: 0.5011 / Mean I/σ(I) obs: 2.07 / % possible all: 97
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0035
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 / 解像度: 2.1→47.84 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.939 / SU B: 5.447 / SU ML: 0.14 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.195 / ESU R Free: 0.17 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23957
1608
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.20467
-
-
-
obs
0.2065
29742
99.22 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK