プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
最高解像度: 1.95 Å / Num. obs: 49195 / % possible obs: 99.8 % / Observed criterion σ(I): -3 / Biso Wilson estimate: 36.714 Å2 / Rmerge F obs: 0.064 / Rmerge(I) obs: 0.045 / Rrim(I) all: 0.051 / Χ2: 0.995 / Net I/σ(I): 21.35 / Num. measured all: 247516
反射 シェル
Diffraction-ID: 1 / Rejects: _
解像度 (Å)
最高解像度 (Å)
Rmerge F obs
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. measured obs
Num. possible
Num. unique obs
Rrim(I) all
% possible all
1.95-2
0.379
0.414
4.29
18766
3565
3564
0.46
100
2-2.05
0.315
0.33
5.33
16656
3176
3174
0.368
99.9
2.05-2.1
0.244
0.252
6.87
15126
2929
2930
0.281
100
2.1-2.2
0.178
0.184
9.01
25726
5081
5075
0.206
99.9
2.2-2.3
0.135
0.131
11.65
20305
4246
4240
0.148
99.9
2.3-2.4
0.097
0.103
14.82
18026
3560
3555
0.115
99.9
2.4-2.5
0.079
0.091
16.68
15879
3035
3032
0.102
99.9
2.5-2.6
0.064
0.076
19.61
13444
2587
2585
0.085
99.9
2.6-2.7
0.053
0.066
22.19
11413
2209
2207
0.074
99.9
2.7-2.8
0.046
0.057
24.01
9660
1914
1912
0.064
99.9
2.8-2.9
0.041
0.05
26.36
7834
1669
1665
0.056
99.8
2.9-3
0.039
0.047
28.5
6890
1458
1456
0.053
99.9
3-4
0.024
0.035
38.56
39739
7888
7854
0.039
99.6
4
0.017
0.027
44.72
28052
5987
5946
0.031
99.3
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
最高解像度
最低解像度
Rotation
2.5 Å
48.87 Å
Translation
2.5 Å
48.87 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0102
精密化
XSCALE
データスケーリング
PHASER
2.3.0
位相決定
PDB_EXTRACT
3.15
データ抽出
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.95→48.87 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.938 / WRfactor Rfree: 0.2372 / WRfactor Rwork: 0.1987 / FOM work R set: 0.8568 / SU B: 3.085 / SU ML: 0.091 / SU R Cruickshank DPI: 0.1448 / SU Rfree: 0.1376 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.145 / ESU R Free: 0.138 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.234
2460
5 %
RANDOM
Rwork
0.1983
-
-
-
obs
0.2001
46735
100 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK