モノクロメーター: 1.072 / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.072 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.86→67.88 Å / Num. obs: 35351 / % possible obs: 97.7 % / 冗長度: 3.6 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 22.2
反射 シェル
解像度: 1.86→1.89 Å / 冗長度: 2.9 % / Rmerge(I) obs: 0.38 / Mean I/σ(I) obs: 2.1 / % possible all: 86
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.85→67.88 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.963 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.955 / SU B: 6.09 / SU ML: 0.082 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.128 / ESU R Free: 0.113 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19507
1405
4 %
RANDOM
Rwork
0.17383
-
-
-
obs
0.1747
33945
97.48 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK