プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.05→30 Å / Num. all: 21228 / Num. obs: 21228 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 8 % / Rsym value: 0.121 / Net I/σ(I): 17.71
反射 シェル
解像度: 2.05→2.09 Å / 冗長度: 7 % / Mean I/σ(I) obs: 4 / Rsym value: 0.482 / % possible all: 99.8
-
解析
ソフトウェア
名称
分類
SHELXL-97
精密化
CNS
精密化
MAR345dtb
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SHELX
位相決定
精密化
構造決定の手法: AB INITIO / 解像度: 2.05→10 Å / Num. parameters: 10475 / Num. restraintsaints: 10205 / 交差検証法: FREE R / σ(F): 0 / 立体化学のターゲット値: ENGH AND HUBER 詳細: ANISOTROPIC SCALING APPLIED BY THE METHOD OF PARKIN, MOEZZI & HOPE, J.APPL.CRYST.28(1995)53-56
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2647
-
-
RANDOM
Rwork
0.1872
-
-
-
all
0.1894
20951
-
-
obs
-
20951
100 %
-
Refine analyze
Num. disordered residues: 1 / Occupancy sum hydrogen: 0 / Occupancy sum non hydrogen: 2609