プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.934 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→20 Å / Num. obs: 63292 / % possible obs: 91 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 5.7 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 22
反射 シェル
解像度: 1.9→2.01 Å / 冗長度: 4.7 % / Rmerge(I) obs: 0.47 / Mean I/σ(I) obs: 3.5 / % possible all: 83
-
解析
ソフトウェア
名称: REFMAC / バージョン: 5.5.0066 / 分類: 精密化
精密化
構造決定の手法: OTHER 開始モデル: NONE 解像度: 1.91→19.81 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.942 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.913 / SU B: 3.675 / SU ML: 0.109 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.186 / ESU R Free: 0.173 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.253
3197
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.2
-
-
-
obs
0.203
60048
90.7 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK