モノクロメーター: Double mirror / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.976 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.97→47.4 Å / Num. all: 18287 / Num. obs: 18287 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 9.8 % / Rmerge(I) obs: 0.149 / Net I/σ(I): 12.5
反射 シェル
解像度: 2.97→3.13 Å / 冗長度: 9.1 % / Rmerge(I) obs: 0.714 / Mean I/σ(I) obs: 3.1 / % possible all: 98.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0131
精密化
PHENIX
1.10.1-2155
精密化
XDS
データ削減
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 3.1→47.4 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.943 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.881 / SU B: 20.473 / SU ML: 0.355 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.483 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27393
804
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.18945
-
-
-
obs
0.19353
14990
97.77 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK