プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9763 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.98→50 Å / Num. obs: 80566 / % possible obs: 96.9 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 2.4 % / Biso Wilson estimate: 22.05 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 9.6
反射 シェル
解像度: 1.98→2.05 Å / 冗長度: 2.3 % / Rmerge(I) obs: 0.26 / Mean I/σ(I) obs: 3.7 / % possible all: 87.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0072
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.98→28.76 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.942 / SU B: 2.754 / SU ML: 0.078 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.126 / ESU R Free: 0.115 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20665
3889
5 %
RANDOM
Rwork
0.18971
-
-
-
obs
0.19056
74100
97.6 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK