プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→30 Å / Num. obs: 45416 / % possible obs: 97.3 % / 冗長度: 4.7 % / Rmerge(I) obs: 0.077 / Net I/σ(I): 11.7
反射 シェル
解像度: 1.8→1.9 Å / 冗長度: 4.5 % / Rmerge(I) obs: 0.675 / Mean I/σ(I) obs: 2.4 / Num. unique obs: 6847 / % possible all: 99.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.8→30 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.967 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.95 / SU B: 5.312 / SU ML: 0.072 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.178 / ESU R Free: 0.11 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20388
2270
5 %
RANDOM
Rwork
0.15906
-
-
-
obs
0.16125
43132
97.35 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK