タイプ: DECTRIS EIGER X 9M / 検出器: PIXEL / 日付: 2022年6月14日 詳細: white beam slits, a double crystal Si(111) monochromator with horizontal axis, tandem flat beam deflecting mirrors (Pd coating), and Kirkpatrick-Baez focusing mirrors, which are Pd coated and ...詳細: white beam slits, a double crystal Si(111) monochromator with horizontal axis, tandem flat beam deflecting mirrors (Pd coating), and Kirkpatrick-Baez focusing mirrors, which are Pd coated and able to bend adaptively using 16 piezo actuators. Each optical element is preceded by slits and its transmitted beam is monitored by beam position monitors or retractable screens
放射
モノクロメーター: Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97932 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.94→58.59 Å / Num. obs: 45038 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 7.4 % / CC1/2: 0.998 / Rpim(I) all: 0.053 / Net I/σ(I): 9
反射 シェル
解像度: 1.94→1.99 Å / 冗長度: 7.6 % / Mean I/σ(I) obs: 1.2 / Num. unique obs: 3278 / CC1/2: 0.912 / Rpim(I) all: 0.77 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
PHENIX
1.20.1-4487-000
精密化
Aimless
データスケーリング
XDS
データ削減
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.94→34.69 Å / SU ML: 0.26 / 交差検証法: FREE R-VALUE / σ(F): 1.33 / 位相誤差: 25.3 / 立体化学のターゲット値: ML
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.2222
2310
5.16 %
Rwork
0.1954
-
-
obs
0.1968
44764
99.51 %
溶媒の処理
減衰半径: 0.9 Å / VDWプローブ半径: 1.11 Å / 溶媒モデル: FLAT BULK SOLVENT MODEL
精密化ステップ
サイクル: LAST / 解像度: 1.94→34.69 Å
タンパク質
核酸
リガンド
溶媒
全体
原子数
4189
0
202
220
4611
拘束条件
Refine-ID
タイプ
Dev ideal
数
X-RAY DIFFRACTION
f_bond_d
0.006
4607
X-RAY DIFFRACTION
f_angle_d
0.79
6356
X-RAY DIFFRACTION
f_dihedral_angle_d
12.69
647
X-RAY DIFFRACTION
f_chiral_restr
0.045
703
X-RAY DIFFRACTION
f_plane_restr
0.007
803
LS精密化 シェル
解像度 (Å)
Rfactor Rfree
Num. reflection Rfree
Rfactor Rwork
Num. reflection Rwork
Refine-ID
% reflection obs (%)
1.94-1.98
0.3991
147
0.351
2579
X-RAY DIFFRACTION
98
1.98-2.03
0.3604
165
0.2985
2598
X-RAY DIFFRACTION
99
2.03-2.08
0.3226
113
0.2732
2604
X-RAY DIFFRACTION
99
2.08-2.13
0.2827
133
0.2352
2603
X-RAY DIFFRACTION
99
2.13-2.2
0.281
137
0.2165
2627
X-RAY DIFFRACTION
99
2.2-2.27
0.2639
149
0.2271
2616
X-RAY DIFFRACTION
99
2.27-2.35
0.2433
126
0.2126
2636
X-RAY DIFFRACTION
100
2.35-2.44
0.2731
136
0.2092
2657
X-RAY DIFFRACTION
100
2.44-2.55
0.2494
157
0.1963
2615
X-RAY DIFFRACTION
100
2.55-2.69
0.242
143
0.203
2648
X-RAY DIFFRACTION
100
2.69-2.86
0.2432
134
0.1876
2649
X-RAY DIFFRACTION
100
2.86-3.08
0.2416
162
0.1958
2664
X-RAY DIFFRACTION
100
3.08-3.39
0.2018
120
0.1869
2677
X-RAY DIFFRACTION
100
3.39-3.88
0.1829
178
0.1688
2682
X-RAY DIFFRACTION
100
3.88-4.88
0.1844
180
0.16
2723
X-RAY DIFFRACTION
100
4.88-34.69
0.2177
130
0.2065
2876
X-RAY DIFFRACTION
100
精密化 TLS
手法: refined / Origin x: -11.7876 Å / Origin y: -27.0644 Å / Origin z: 21.8895 Å