プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.85→72.69 Å / Num. obs: 11703 / % possible obs: 83.2 % / 冗長度: 2.7 % / Rmerge(I) obs: 0.092 / Net I/σ(I): 10.2
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique obs
CC1/2
CC star
Rpim(I) all
Rrim(I) all
Χ2
% possible all
2.85-2.9
2.7
0.502
613
0.794
0.941
0.349
0.615
0.655
87.2
2.9-2.95
2.5
0.424
575
0.804
0.944
0.312
0.529
0.872
85.8
2.95-3.01
2.7
0.414
588
0.766
0.932
0.289
0.507
0.693
84.1
3.01-3.07
2.7
0.318
585
0.859
0.961
0.22
0.389
0.842
86.8
3.07-3.14
2.5
0.298
579
0.862
0.962
0.211
0.367
0.913
85.1
3.14-3.21
2.8
0.265
609
0.913
0.977
0.179
0.321
0.986
86.5
3.21-3.29
2.8
0.231
584
0.908
0.976
0.157
0.281
1.159
85.3
3.29-3.38
2.7
0.208
584
0.918
0.978
0.143
0.254
1.266
85.3
3.38-3.48
2.7
0.169
599
0.965
0.991
0.119
0.208
1.518
84.7
3.48-3.59
2.7
0.129
575
0.97
0.992
0.091
0.159
1.78
82.9
3.59-3.72
2.5
0.114
583
0.975
0.994
0.083
0.142
1.927
83.9
3.72-3.87
2.7
0.101
575
0.982
0.995
0.071
0.124
2.157
83.1
3.87-4.04
2.6
0.089
583
0.988
0.997
0.064
0.11
2.485
82.1
4.04-4.26
2.8
0.078
569
0.989
0.997
0.054
0.095
2.38
82.8
4.26-4.52
2.7
0.067
584
0.991
0.998
0.046
0.082
2.699
83.3
4.52-4.87
2.6
0.06
583
0.991
0.998
0.043
0.074
2.349
81.4
4.87-5.36
2.6
0.06
581
0.993
0.998
0.044
0.075
2.772
80.7
5.36-6.14
2.7
0.06
564
0.993
0.998
0.042
0.073
2.596
79.1
6.14-7.73
2.7
0.054
582
0.995
0.999
0.037
0.066
2.337
78.3
7.73-50
2.4
0.045
608
0.996
0.999
0.033
0.056
3.446
76.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0155
精密化
HKL-2000
データスケーリング
HKL-2000
データ削減
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.85→72.69 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.927 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.904 / SU B: 30.483 / SU ML: 0.275 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.437 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25284
609
5.2 %
RANDOM
Rwork
0.21376
-
-
-
obs
0.21573
11066
82.98 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK