プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9793 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.95→134.96 Å / Num. obs: 74559 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 5.2 % / CC1/2: 0.993 / Rpim(I) all: 0.075 / Net I/σ(I): 7.1
反射 シェル
解像度: 1.95→2.06 Å / 冗長度: 5.3 % / Mean I/σ(I) obs: 1.5 / Num. unique obs: 10735 / CC1/2: 0.599 / Rpim(I) all: 0.573 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0352
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.95→85.98 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.955 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.936 / SU B: 5.05 / SU ML: 0.134 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.165 / ESU R Free: 0.155 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2441
3113
4.2 %
RANDOM
Rwork
0.1994
-
-
-
obs
0.20124
71315
99.89 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK