プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→50 Å / Num. obs: 35748 / % possible obs: 98.4 % / 冗長度: 4.7 % / Rmerge(I) obs: 0.046 / Net I/σ(I): 18.2
反射 シェル
解像度: 1.8→1.9 Å / Rmerge(I) obs: 0.643 / Mean I/σ(I) obs: 2.3 / Num. unique obs: 5333 / % possible all: 99.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.8→44.85 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.973 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.965 / SU B: 4.122 / SU ML: 0.06 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.058 / ESU R Free: 0.024 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19597
1787
5 %
RANDOM
Rwork
0.16157
-
-
-
obs
0.16332
33957
98.44 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK