プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.7→50 Å / Num. obs: 179315 / % possible obs: 97.2 % / 冗長度: 3.1 % / Rmerge(I) obs: 0.065 / Net I/σ(I): 9.6
反射 シェル
解像度: 1.7→1.8 Å / Rmerge(I) obs: 0.524 / Mean I/σ(I) obs: 2.4 / Num. unique obs: 28397 / % possible all: 97.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.7→46.71 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.969 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.962 / SU B: 3.61 / SU ML: 0.057 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.036 / ESU R Free: 0.021 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19864
8937
5 %
RANDOM
Rwork
0.1659
-
-
-
obs
0.16757
170348
97.06 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK