プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97918 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.17→50 Å / Num. obs: 32051 / % possible obs: 99.6 % / 冗長度: 16.4 % / CC1/2: 1 / CC star: 1 / Rmerge(I) obs: 0.069 / Χ2: 0.692 / Net I/σ(I): 7.2
反射 シェル
解像度: 2.17→2.21 Å / 冗長度: 13.2 % / Rmerge(I) obs: 0.991 / Mean I/σ(I) obs: 2 / Num. unique obs: 1557 / CC1/2: 0.851 / CC star: 0.955 / Χ2: 0.558 / % possible all: 99.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-3000
データスケーリング
PHASER
位相決定
REFMAC
5.8.0258
精密化
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.17→45.73 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.957 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.954 / SU B: 4.463 / SU ML: 0.112 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.164 / ESU R Free: 0.148 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22466
1521
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.20064
-
-
-
obs
0.20177
30483
99.46 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK