プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97918 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.49→50 Å / Num. obs: 87534 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 8.2 % / CC1/2: 0.998 / CC star: 0.999 / Rmerge(I) obs: 0.065 / Χ2: 1.135 / Net I/σ(I): 12.6
反射 シェル
解像度: 1.49→1.52 Å / 冗長度: 8.1 % / Rmerge(I) obs: 0.945 / Mean I/σ(I) obs: 2 / Num. unique obs: 4297 / CC1/2: 0.75 / CC star: 0.926 / Χ2: 0.706 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-3000
データスケーリング
PHASER
位相決定
REFMAC
5.8.0258
精密化
HKL-3000
データ削減
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.49→48.66 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.968 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.973 / SU B: 0.962 / SU ML: 0.035 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.052 / ESU R Free: 0.05 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.17745
1683
1.9 %
RANDOM
Rwork
0.17134
-
-
-
obs
0.17147
85796
99.7 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK