プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.2827 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.1→77.3 Å / Num. obs: 43002 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 39.8 % / CC1/2: 0.999 / Rmerge(I) obs: 0.193 / Net I/σ(I): 19.4
反射 シェル
解像度: 2.1→2.21 Å / Num. unique obs: 30185 / CC1/2: 0.754 / % possible all: 99.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0258
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
SHELXDE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.1→64.625 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.959 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.953 / SU B: 8.865 / SU ML: 0.117 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.16 / ESU R Free: 0.142 / 詳細: Hydrogens have been added in their riding positions
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.2178
1654
3.846 %
Rwork
0.1944
41348
-
all
0.195
-
-
obs
-
43002
99.998 %
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK BULK SOLVENT