プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.976241 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.42→45.94 Å / Num. obs: 53900 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 10 % / Biso Wilson estimate: 22.38 Å2 / CC1/2: 0.999 / Rmerge(I) obs: 0.068 / Rpim(I) all: 0.027 / Rrim(I) all: 0.071 / Χ2: 0.93 / Net I/av σ(I): 18.7 / Net I/σ(I): 18.7
反射 シェル
解像度: 1.42→1.44 Å / Num. unique obs: 75904 / CC1/2: 0.997 / % possible all: 98.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0258
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
SHELXD
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.6→45.94 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.979 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.97 / SU B: 3.106 / SU ML: 0.046 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.064 / ESU R Free: 0.061 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.16994
2810
5.2 %
RANDOM
Rwork
0.13393
-
-
-
obs
0.13575
51088
99.98 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.3 Å / 溶媒モデル: MASK