プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.978763716744 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.6→50 Å / Num. obs: 64879 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 13.1 % / Rpim(I) all: 0.029 / Net I/σ(I): 20.7
反射 シェル
解像度: 2.6→2.66 Å / 冗長度: 13.5 % / Mean I/σ(I) obs: 3.3 / Num. unique obs: 4487 / Rpim(I) all: 0.209 / % possible all: 99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0253
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
AutoSol
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.6→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.945 / SU B: 8.649 / SU ML: 0.174 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.325 / ESU R Free: 0.218 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2111
3043
4.7 %
RANDOM
Rwork
0.19674
-
-
-
obs
0.19745
61810
99.9 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK