分子量: 109100.414 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 組換発現 詳細: The last domain is ill defined, the fragments that could be fit into density are described as UNK.,The last domain is ill defined, the fragments that could be fit into density are described as UNK. 由来: (組換発現) Paenibacillus (バクテリア) / 株: sp. 62047 / 発現宿主: Bacillus subtilis (枯草菌) / 参照: UniProt: A0A3F2YM16*PLUS
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.92 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.04→27.5 Å / Num. obs: 84289 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 10.2 % / Biso Wilson estimate: 28 Å2 / CC1/2: 0.999 / Rmerge(I) obs: 0.099 / Net I/σ(I): 15.8
反射 シェル
解像度: 2.04→2.09 Å / Rmerge(I) obs: 0.65 / Mean I/σ(I) obs: 3.6 / CC1/2: 0.878
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0189
精密化
xia2
データ削減
Aimless
データスケーリング
CRANK2
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.04→27.5 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.933 / SU B: 6.268 / SU ML: 0.095 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.157 / ESU R Free: 0.14 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21047
4202
5 %
RANDOM
Rwork
0.17978
-
-
-
obs
0.18133
80028
99.81 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK