プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.196 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→35.67 Å / Num. obs: 44414 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 4.2 % / Biso Wilson estimate: 30.1 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.043 / Net I/σ(I): 14
反射 シェル
解像度: 1.9→2 Å / 冗長度: 4.1 % / Rmerge(I) obs: 0.326 / Mean I/σ(I) obs: 2.5 / Num. unique obs: 6433 / % possible all: 99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0158
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 1.9→98.5 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.966 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.957 / SU B: 5.288 / SU ML: 0.076 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.11 / ESU R Free: 0.106 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19526
2208
5 %
RANDOM
Rwork
0.16706
-
-
-
obs
0.16848
41647
99.61 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK