プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97872 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→25 Å / Num. obs: 53163 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 4.6 % / Net I/σ(I): 13.1
反射 シェル
解像度: 1.9→2 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0029
精密化
UCSD-system
dataprocessing
XDS
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 1.9→25 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.949 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.935 / SU B: 4.103 / SU ML: 0.118 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.175 / ESU R Free: 0.154 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24514
2798
5 %
RANDOM
Rwork
0.21236
-
-
-
obs
0.214
53163
99.83 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK