プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.3→50 Å / Num. obs: 106239 / % possible obs: 97.6 % / 冗長度: 3.5 % / Biso Wilson estimate: 17.5 Å2 / CC1/2: 0.996 / Rmerge(I) obs: 0.121 / Net I/σ(I): 7.41
反射 シェル
解像度: 1.3→1.38 Å / 冗長度: 1.89 % / Mean I/σ(I) obs: 0.91 / Num. unique obs: 17556 / CC1/2: 0.37 / % possible all: 86.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0155
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多重同系置換 / 解像度: 1.3→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.979 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.969 / SU B: 1.786 / SU ML: 0.032 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.046 / ESU R Free: 0.045 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.16465
2790
5 %
RANDOM
Rwork
0.1329
-
-
-
obs
0.13451
53071
97.88 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK