プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.4→62.078 Å / Num. obs: 8171 / % possible obs: 87.6 % / 冗長度: 7.9 % / Net I/σ(I): 11.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0189
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
解像度: 2.4→32.93 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.911 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.871 / SU B: 10.111 / SU ML: 0.227 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.914 / ESU R Free: 0.298 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24243
384
4.7 %
RANDOM
Rwork
0.20522
-
-
-
obs
0.20702
7709
87.22 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK