プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9793 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.35→111.5 Å / Num. obs: 18567 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 12.7 % / Net I/σ(I): 32.4
反射 シェル
解像度: 2.35→2.39 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0135
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.35→42.667 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.948 / SU B: 4.621 / SU ML: 0.108 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.193 / ESU R Free: 0.158 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20217
940
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.18651
-
-
-
obs
0.18732
17611
99.86 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK