プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54187 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.96→32.97 Å / Num. obs: 23283 / % possible obs: 87.2 % / 冗長度: 9.5 % / Biso Wilson estimate: 30.498 Å2 / CC1/2: 0.998 / Rmerge(I) obs: 0.135 / Net I/σ(I): 10.9
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
CC1/2
Diffraction-ID
% possible all
1.96-2.01
1.2
0.424
1.4
0.537
1
28
8.98-32.97
21.1
0.075
33.3
0.997
1
97.5
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
最高解像度
最低解像度
Rotation
6.71 Å
29.95 Å
Translation
6.71 Å
29.95 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
CrystalClear
データ収集
MOSFLM
7.1.3
データ削減
Aimless
0.5.8
データスケーリング
PHASER
2.5.7
位相決定
REFMAC
5.8.0107
精密化
PDB_EXTRACT
3.2
データ抽出
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: partially refined model from a different crystal form 解像度: 1.96→32.97 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.978 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.957 / SU B: 10.377 / SU ML: 0.126 / SU R Cruickshank DPI: 0.1614 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.161 / ESU R Free: 0.146 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT U VALUES : WITH TLS ADDED TO B Factors
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1942
924
4 %
RANDOM
Rwork
0.1484
-
-
-
obs
0.1502
21941
85.78 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: Babinet bulk solvent modeling