プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.978 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.55→50 Å / Num. obs: 29719 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 7.3 % / CC1/2: 0.92 / Rmerge(I) obs: 0.057 / Net I/σ(I): 32.3
反射 シェル
解像度: 1.55→1.61 Å / 冗長度: 7.3 % / Rmerge(I) obs: 1.32 / Mean I/σ(I) obs: 1.7 / CC1/2: 0.62 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0103
精密化
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
SHELXD
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.55→33.52 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.975 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.959 / SU B: 3.238 / SU ML: 0.051 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.091 / ESU R Free: 0.078 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.18341
1336
4.7 %
RANDOM
Rwork
0.13187
-
-
-
obs
0.13431
26948
95.25 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK