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基本情報
登録情報
データベース: PDB / ID: 5npl
タイトル
Crystal structure of hexameric CBS-CP12 protein from bloom-forming cyanobacteria, Yb-derivative at 2.8 A resolution
要素
Similar to tr|Q8YYT1|Q8YYT1
キーワード
PHOTOSYNTHESIS / Cystathionine beta synthase domain / fusion protein / redox-regulation of photosynthesis
機能・相同性
機能・相同性情報
CP12 domain / CP12 domain / CP12 / : / Domain in cystathionine beta-synthase and other proteins. / CBS domain superfamily / CBS domain / CBS domain / CBS domain profile. 類似検索 - ドメイン・相同性
Chem-DO3 / YTTERBIUM (III) ION / Similar to tr 類似検索 - 構成要素
Un-modelled atoms are due to lack of electron density support.
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実験情報
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実験
実験
手法: X線回折 / 使用した結晶の数: 1
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試料調製
結晶
マシュー密度: 2.13 Å3/Da / 溶媒含有率: 44 %
結晶化
温度: 292 K / 手法: 蒸気拡散法 / pH: 8 詳細: 300 MM NA ACETATE, 20% PEG2000 MME, REMARK 280 100 MM HEPES BUFFER, PH 8.0; before data collection crystals were soaked for 30 min in a solution containing 25% PEG2000MME, 0.2 M sodium ...詳細: 300 MM NA ACETATE, 20% PEG2000 MME, REMARK 280 100 MM HEPES BUFFER, PH 8.0; before data collection crystals were soaked for 30 min in a solution containing 25% PEG2000MME, 0.2 M sodium acetate, 0.1 M HEPES, pH 8.0 and 0.1 M Yb-HPDO3A
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データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: シンクロトロン / サイト: PETRA III, EMBL c/o DESY / ビームライン: P13 (MX1) / 波長: 1.385 Å
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.385 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.79→66 Å / Num. obs: 13464 / % possible obs: 97.8 % / 冗長度: 6.5 % / Biso Wilson estimate: 51.1 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.095 / Net I/σ(I): 14.5
反射 シェル
解像度: 2.79→2.87 Å / 冗長度: 2.7 % / Rmerge(I) obs: 0.63 / Mean I/σ(I) obs: 1.77 / % possible all: 61.2
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解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0155
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
CRANK2
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.79→10 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.942 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.926 / SU B: 25.935 / SU ML: 0.259 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.359 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21948
677
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.18593
-
-
-
obs
0.18764
13151
95.52 %
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溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK