プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97942 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.5→40.25 Å / Num. obs: 19048 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 2.6 % / Biso Wilson estimate: 82 Å2 / CC1/2: 0.999 / Rsym value: 0.04 / Net I/σ(I): 12.7
反射 シェル
解像度: 2.5→2.65 Å / 冗長度: 2.6 % / Rmerge(I) obs: 0.908 / Mean I/σ(I) obs: 1 / % possible all: 99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0135
精密化
SHELXDE
位相決定
XSCALE
データスケーリング
XDS
データ削減
MxCuBE
データ収集
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.5→35 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.968 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.956 / SU B: 29.377 / SU ML: 0.259 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.418 / ESU R Free: 0.253 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22614
980
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.18486
-
-
-
obs
0.187
18066
97.47 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.1 Å / 溶媒モデル: MASK