プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.988 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.29→29 Å / Num. obs: 23154 / % possible obs: 99.6 % / 冗長度: 4.8 % / Rmerge(I) obs: 0.033 / Net I/σ(I): 18.2
反射 シェル
解像度: 2.29→2.35 Å / 冗長度: 4.9 % / Rmerge(I) obs: 0.69 / Mean I/σ(I) obs: 2.3 / % possible all: 99.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0135
精密化
xia2
データ削減
xia2
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 2.29→29 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.966 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.948 / SU B: 14.512 / SU ML: 0.169 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.24 / ESU R Free: 0.198 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23912
1186
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.20326
-
-
-
obs
0.20511
21920
99.43 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.9 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1 Å / 溶媒モデル: MASK