プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97933 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→50 Å / Num. obs: 35239 / % possible obs: 99.3 % / 冗長度: 4.9 % / Net I/σ(I): 43
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0151
精密化
HKL-2000
dataprocessing
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.9→47.59 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.925 / SU B: 4.073 / SU ML: 0.121 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.186 / ESU R Free: 0.166 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23535
1768
5 %
RANDOM
Rwork
0.18134
-
-
-
obs
0.1842
33467
99.32 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK