プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97939 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.74→85.58 Å / Num. obs: 19015 / % possible obs: 99.5 % / Observed criterion σ(I): 2.8 / 冗長度: 4.5 % / Biso Wilson estimate: 46.511 Å2 / Rsym value: 0.01 / Net I/σ(I): 10.42
反射 シェル
解像度: 2.74→2.9 Å / 冗長度: 4.5 % / Mean I/σ(I) obs: 2.81 / Rsym value: 0.54 / % possible all: 96.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0135
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
autoSHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.74→85.57 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.965 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.943 / SU B: 19.334 / SU ML: 0.331 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.629 / ESU R Free: 0.305 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23801
968
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.19579
-
-
-
obs
0.19805
17914
99.31 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK