プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.8945 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.75→46.14 Å / Num. obs: 24085 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 3.5 % / Biso Wilson estimate: 11.1 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.101 / Net I/σ(I): 10.7
反射 シェル
解像度: 1.75→1.78 Å / 冗長度: 3.5 % / Rmerge(I) obs: 0.663 / Mean I/σ(I) obs: 2 / % possible all: 99.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0131
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
MOLREP
位相決定
Coot
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: our previous model of S1 解像度: 1.75→46.14 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.972 / SU B: 1.881 / SU ML: 0.057 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.097 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.18111
1198
5 %
Random selection
Rwork
0.13131
-
-
-
obs
0.1331
24066
99.75 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK