温度: 293 K / 手法: 蒸気拡散法 / pH: 4.3 詳細: Initial: 0.1 M sodium acetate pH 4.6 and 2.0 M NaCl, Optimization: 0.1 M sodium acetate pH 4.3 and 2.4 M NaCl PH範囲: 4.0-5.6
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.45 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.7→40 Å / Num. all: 13674 / Num. obs: 13674 / % possible obs: 99.6 % / 冗長度: 6.7 % / Net I/σ(I): 16.96
反射 シェル
解像度: 1.7→1.81 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0107
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
HKL-2000
データ収集
精密化
構造決定の手法: 単一同系置換・異常分散 / 解像度: 1.69→75.57 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.947 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.935 / SU B: 2.902 / SU ML: 0.093 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.12 / ESU R Free: 0.122 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26288
608
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.22192
-
-
-
obs
0.22391
11992
88.57 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK