モノクロメーター: Si(111)double crystal / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97934 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.56→50 Å / Num. obs: 10292 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 10.8 % / Rmerge(I) obs: 0.114 / Χ2: 1.104 / Net I/av σ(I): 21.025 / Net I/σ(I): 10.8 / Num. measured all: 111364
反射 シェル
Diffraction-ID: 1 / Rejects: _
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
% possible all
2.56-2.58
11
0.992
273
0.803
100
2.58-2.6
11
0.914
232
0.846
100
2.6-2.63
11.1
0.96
270
0.86
100
2.63-2.65
10.9
0.782
259
0.918
100
2.65-2.68
11.1
0.646
242
0.906
100
2.68-2.7
11
0.687
246
0.887
100
2.7-2.73
11
0.566
267
0.889
100
2.73-2.76
11
0.57
244
0.941
100
2.76-2.79
11.1
0.476
248
0.972
100
2.79-2.82
11
0.393
270
0.904
100
2.82-2.85
11.1
0.377
245
0.957
100
2.85-2.88
11
0.355
261
0.964
100
2.88-2.92
10.9
0.337
259
0.98
100
2.92-2.96
11.2
0.318
238
0.998
100
2.96-2.99
11.1
0.271
256
0.981
100
2.99-3.04
10.9
0.263
243
1.102
100
3.04-3.08
11.1
0.213
268
1.07
100
3.08-3.12
10.9
0.224
268
1.164
100
3.12-3.17
11.1
0.202
246
1.127
100
3.17-3.23
11
0.168
250
1.129
100
3.23-3.28
10.9
0.171
253
1.228
100
3.28-3.34
10.9
0.151
269
1.148
100
3.34-3.4
11
0.142
246
1.262
100
3.4-3.47
10.9
0.135
266
1.28
100
3.47-3.55
10.9
0.124
255
1.312
100
3.55-3.63
10.8
0.125
255
1.456
100
3.63-3.72
10.9
0.115
251
1.387
100
3.72-3.82
10.9
0.116
264
1.463
100
3.82-3.94
10.8
0.104
264
1.428
100
3.94-4.06
10.7
0.11
253
1.465
100
4.06-4.21
10.6
0.105
254
1.454
100
4.21-4.38
10.6
0.098
257
1.336
100
4.38-4.58
10.6
0.094
262
1.339
100
4.58-4.82
10.6
0.089
254
1.188
100
4.82-5.12
10.4
0.084
268
1.158
100
5.12-5.51
10.2
0.097
256
1.174
100
5.51-6.07
10.5
0.088
261
1.019
100
6.07-6.94
10.4
0.086
268
0.948
100
6.94-8.74
10.5
0.081
273
0.962
100
8.74-50
9.5
0.074
278
0.785
97.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
SCALEPACK
データスケーリング
REFMAC
5.7.0029
精密化
PDB_EXTRACT
3.15
データ抽出
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
位相決定
SBC-Collect
データ収集
精密化
解像度: 2.56→39.16 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.937 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.913 / SU B: 16.846 / SU ML: 0.179 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.438 / ESU R Free: 0.256 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD WITH PHASES 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2219
479
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.1828
-
-
-
obs
0.1847
9559
97.44 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK