プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9792 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.2→30 Å / Num. obs: 16304 / % possible obs: 95 % / 冗長度: 2.3 % / Rsym value: 0.069 / Net I/σ(I): 22.1
反射 シェル
最高解像度: 2.2 Å / 冗長度: 2 % / Rmerge(I) obs: 0.29 / Mean I/σ(I) obs: 2 / % possible all: 84.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0123
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
解像度: 2.2→27.74 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.967 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.929 / SU B: 9.628 / SU ML: 0.232 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.344 / ESU R Free: 0.258 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26711
825
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.19059
-
-
-
obs
0.19442
15453
94.61 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK