プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.973 Å / 相対比: 1
Reflection twin
Crystal-ID
ID
Operator
Domain-ID
Fraction
1
1
H, K, L
1
0.214
1
1
K, H, -L
2
0.786
反射
解像度: 2→47.6 Å / Num. obs: 15615 / % possible obs: 99.5 % / 冗長度: 7 % / Rmerge(I) obs: 0.115 / Net I/σ(I): 14.7
反射 シェル
解像度: 2→2.05 Å / 冗長度: 7 % / Rmerge(I) obs: 0.1237 / Mean I/σ(I) obs: 2 / % possible all: 99.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2→47.6 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.947 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.918 / SU B: 2.533 / SU ML: 0.077 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.042 / ESU R Free: 0.037 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24865
753
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.20526
-
-
-
obs
0.20737
14861
99.5 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK