プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.978 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.6→35.2 Å / Num. obs: 20859 / % possible obs: 99.4 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 6.75 % / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 16.65
反射 シェル
解像度: 1.6→1.69 Å / 冗長度: 6.62 % / Rmerge(I) obs: 0.76 / Mean I/σ(I) obs: 2.07 / % possible all: 96.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
SHELX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.6→35.22 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.966 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.943 / SU B: 3.626 / SU ML: 0.06 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.084 / ESU R Free: 0.09 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21637
1065
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.17416
-
-
-
obs
0.17633
19701
99.54 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK