プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.4→50.26 Å / Num. obs: 69228 / % possible obs: 95.1 % / 冗長度: 7.9 % / Net I/σ(I): 1.8
反射 シェル
解像度: 1.4→1.42 Å / 冗長度: 8 % / Rmerge(I) obs: 0.069 / Mean I/σ(I) obs: 34.2 / % possible all: 91.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
HKL-2000
データスケーリング
PHASER
位相決定
Coot
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.4→50.26 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.967 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.954 / SU B: 0.8 / SU ML: 0.033 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.059 / ESU R Free: 0.061 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.17179
3478
5 %
RANDOM
Rwork
0.1432
-
-
-
obs
0.14464
65749
95.08 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK