プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.89→50 Å / Num. obs: 45516 / % possible obs: 93.8 % / 冗長度: 3 % / Rsym value: 0.052 / Net I/σ(I): 20.8
反射 シェル
解像度: 1.89→1.9 Å / 冗長度: 2.8 % / Rmerge(I) obs: 0.65 / Mean I/σ(I) obs: 1.83 / % possible all: 61.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
PHENIX
1.9_1692
精密化
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: The 2.7 Angstrom model resolved by SAD experiment 解像度: 1.898→37.011 Å / SU ML: 0.19 / 交差検証法: FREE R-VALUE / σ(F): 1.36 / 位相誤差: 22.06 / 立体化学のターゲット値: ML
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.2208
2024
5.07 %
Rwork
0.1844
-
-
obs
0.1862
39897
87.75 %
溶媒の処理
減衰半径: 0.9 Å / VDWプローブ半径: 1.11 Å / 溶媒モデル: FLAT BULK SOLVENT MODEL