プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.8726 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→57.45 Å / Num. all: 26612 / Num. obs: 26612 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 6.6 % / Rmerge(I) obs: 0.078 / Net I/av σ(I): 8.2 / Net I/σ(I): 14.9
反射 シェル
解像度: 2→2.05 Å / 冗長度: 6.2 % / Rmerge(I) obs: 0.601 / Mean I/σ(I) obs: 2.6 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
解像度: 2→57.45 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.916 / SU B: 4.927 / SU ML: 0.133 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.186 / ESU R Free: 0.176 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2437
1344
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.18114
-
-
-
obs
0.18415
25217
99.97 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK