モノクロメーター: Silicon crystal / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9765 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 3.2→48.95 Å / Num. obs: 49734 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 6.6 % / Rmerge(I) obs: 0.305 / Net I/σ(I): 7
反射 シェル
解像度: 3.2→3.31 Å / 冗長度: 6.4 % / Rmerge(I) obs: 1.73 / Mean I/σ(I) obs: 1.3 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 3.2→48.95 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.889 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.881 / SU B: 58.57 / SU ML: 0.408 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.464 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.271
2511
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.21834
-
-
-
obs
0.221
47173
99.88 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK