プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.98 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.242→94.19 Å / Num. obs: 146799 / % possible obs: 98.9 % / 冗長度: 6.5 % / Rpim(I) all: 0.031 / Net I/σ(I): 11.5
反射 シェル
解像度: 1.242→1.274 Å / 冗長度: 6 % / Mean I/σ(I) obs: 2 / Rpim(I) all: 0.344 / % possible all: 94.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0102
精密化
xia2
データ削減
xia2
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.242→94.19 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.975 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.971 / SU B: 1.327 / SU ML: 0.026 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.038 / ESU R Free: 0.037 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.16319
7752
5 %
RANDOM
Rwork
0.14346
-
-
-
obs
0.14445
146799
99.83 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK