プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.98 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.01→63.85 Å / Num. obs: 264342 / % possible obs: 99.97 % / 冗長度: 4 % / Rmerge(I) obs: 0.027 / Net I/σ(I): 14.3
反射 シェル
解像度: 1.01→1.04 Å / 冗長度: 2.2 % / Rmerge(I) obs: 0.314 / Mean I/σ(I) obs: 2.2 / % possible all: 99.99
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0102
精密化
xia2
データ削減
xia2
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 1.01→63.85 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.978 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.972 / SU B: 0.602 / SU ML: 0.014 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.019 / ESU R Free: 0.02 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.14501
13893
5 %
RANDOM
Rwork
0.1299
-
-
-
obs
0.13064
264342
99.97 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK