プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.63→62.01 Å / Num. obs: 49251 / % possible obs: 98.9 % / 冗長度: 6.1 % / Net I/σ(I): 51.92
反射 シェル
解像度: 1.63→1.69 Å / 冗長度: 5.7 % / Mean I/σ(I) obs: 4.68 / % possible all: 95.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
HKL-2000
位相決定
精密化
解像度: 1.63→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.97 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.956 / SU B: 1.659 / SU ML: 0.057 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.089 / ESU R Free: 0.091 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2069
2483
5 %
RANDOM
Rwork
0.17019
-
-
-
obs
0.17201
46686
98.89 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK