プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9795 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.92→58.1 Å / Num. all: 22440 / Num. obs: 21243 / % possible obs: 99.92 % / 冗長度: 11.3 % / Rmerge(I) obs: 0.072 / Net I/σ(I): 20.1
反射 シェル
解像度: 1.92→1.97 Å / 冗長度: 11.7 % / Rmerge(I) obs: 0.716 / Mean I/σ(I) obs: 3.6 / % possible all: 99.94
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0103
精密化
xia2
データ削減
xia2
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.92→58.1 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.957 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.944 / SU B: 7.151 / SU ML: 0.105 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.163 / ESU R Free: 0.144 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22535
1132
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.19298
-
-
-
obs
0.19465
21243
99.92 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1 Å / 溶媒モデル: MASK