プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9774 Å / 相対比: 1
Reflection twin
Crystal-ID
ID
Operator
Domain-ID
Fraction
1
1
H, K, L
1
0.629
1
1
-h,-k,l
2
0.371
反射
解像度: 2.41→93.68 Å / Num. obs: 19922 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 4.7 % / Net I/σ(I): 14.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
PROCESS
データ削減
PROCESS
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 2.41→62.46 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.947 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.935 / SU B: 6.073 / SU ML: 0.149 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.073 / ESU R Free: 0.053 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25744
1030
5.2 %
RANDOM
Rwork
0.22149
-
-
-
obs
0.22324
18841
99.77 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK