温度: 293 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / 詳細: 13-16 % AMMONIUM SULFATE, 1-5 MM PLP, 50 MM TRIS / PH範囲: 6.5-7.5
-
データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: 回転陽極 / タイプ: RIGAKU RUH3R / 波長: 1.54 Å
検出器
タイプ: MAR scanner 345 mm plate / 検出器: IMAGE PLATE / 日付: 2005年8月1日
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 3.2→15 Å / Num. obs: 22389 / % possible obs: 94.8 % / 冗長度: 5.9 % / Rsym value: 0.124 / Net I/σ(I): 19.2
反射 シェル
解像度: 3.2→3.3 Å / 冗長度: 6.2 % / Rmerge(I) obs: 0.519 / Mean I/σ(I) obs: 3.1 / % possible all: 97.2
-
解析
ソフトウェア
名称: REFMAC / バージョン: 5.4.0077 / 分類: 精密化
精密化
解像度: 3.2→15 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.94 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.887 / SU B: 24.855 / SU ML: 0.419 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.536 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.28972
1207
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.21377
-
-
-
obs
0.21772
22389
94.73 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK