プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97625 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.67→58.05 Å / Num. obs: 71183 / % possible obs: 92.6 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 2.2 % / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 9.1
反射 シェル
解像度: 1.67→1.71 Å / 冗長度: 2.3 % / Rmerge(I) obs: 0.41 / Mean I/σ(I) obs: 2 / % possible all: 92.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: NONE 解像度: 1.67→58.05 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.972 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.959 / SU B: 4.407 / SU ML: 0.063 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.161 / ESU R Free: 0.091 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.17693
3598
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.14568
-
-
-
obs
0.14726
67585
92.62 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK