ソフトウェア | 名称: PHENIX / バージョン: (phenix.refine: 1.5_2) / 分類: 精密化 |
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精密化 | 解像度: 2.8→19.911 Å / SU ML: 0.34 / 交差検証法: FREE R-VALUE / σ(F): 1.35 / 位相誤差: 21.6 / 立体化学のターゲット値: ML
| Rfactor | 反射数 | %反射 |
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Rfree | 0.2215 | 717 | 5.05 % |
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Rwork | 0.1722 | - | - |
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obs | 0.1747 | 14212 | 100 % |
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溶媒の処理 | 減衰半径: 0.9 Å / VDWプローブ半径: 1.11 Å / 溶媒モデル: FLAT BULK SOLVENT MODEL / Bsol: 14.742 Å2 / ksol: 0.327 e/Å3 |
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原子変位パラメータ | | Baniso -1 | Baniso -2 | Baniso -3 |
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1- | -2.2374 Å2 | 0 Å2 | 0 Å2 |
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2- | - | -2.2374 Å2 | -0 Å2 |
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3- | - | - | 4.4747 Å2 |
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 2.8→19.911 Å
| タンパク質 | 核酸 | リガンド | 溶媒 | 全体 |
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原子数 | 3416 | 0 | 69 | 85 | 3570 |
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拘束条件 | Refine-ID | タイプ | Dev ideal | 数 |
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X-RAY DIFFRACTION | f_bond_d0.008 | 3560 | X-RAY DIFFRACTION | f_angle_d1.151 | 4854 | X-RAY DIFFRACTION | f_dihedral_angle_d18.998 | 1318 | X-RAY DIFFRACTION | f_chiral_restr0.076 | 560 | X-RAY DIFFRACTION | f_plane_restr0.004 | 590 | | | | | |
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Refine LS restraints NCS | Ens-ID | Dom-ID | Auth asym-ID | 数 | Refine-ID | タイプ | Rms dev position (Å) |
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1 | 1 | A1577 | X-RAY DIFFRACTION | POSITIONAL | 1 | 2 | B1577 | X-RAY DIFFRACTION | POSITIONAL0.045 | | | | |
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LS精密化 シェル | 解像度 (Å) | Rfactor Rfree | Num. reflection Rfree | Rfactor Rwork | Num. reflection Rwork | Refine-ID | % reflection obs (%) |
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2.8001-3.0157 | 0.3002 | 142 | 0.2209 | 2676 | X-RAY DIFFRACTION | 100 | 3.0157-3.3179 | 0.2765 | 142 | 0.2039 | 2672 | X-RAY DIFFRACTION | 100 | 3.3179-3.7951 | 0.2134 | 143 | 0.1726 | 2672 | X-RAY DIFFRACTION | 100 | 3.7951-4.7705 | 0.1908 | 138 | 0.1342 | 2707 | X-RAY DIFFRACTION | 100 | 4.7705-19.9117 | 0.1625 | 152 | 0.144 | 2768 | X-RAY DIFFRACTION | 100 |
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