プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.91841 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.53→50 Å / Num. obs: 10808 / % possible obs: 99.6 % / 冗長度: 7 % / Net I/σ(I): 15.7
反射 シェル
解像度: 2.53→2.68 Å / % possible obs: 98.7 % / 冗長度: 7.02 % / Rmerge(I) obs: 1.014 / Mean I/σ(I) obs: 1.76
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0032
精密化
XDS
データ削減
MAR345dtb
データ収集
SHELXDE
位相決定
XSCALE
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単一同系置換・異常分散 / 解像度: 2.53→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.941 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.914 / SU B: 11.856 / SU ML: 0.242 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.353 / ESU R Free: 0.31 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.30392
443
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.22869
-
-
-
obs
0.23219
8855
84.46 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK